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1200℃最高温度の真空管状炉 石英・セラミック炉心管対応
• 最高温度は1200℃で、カンタルワイヤー発熱体を使用しています • 真空ポンプと配管を接続することで、低真空・中真空下での熱処理が可能です • 真空置換機能により、不活性ガスや反応ガスなどの制御雰囲気での加熱が可能です • 大気での加熱も可能で、3種類の加熱方法を1機で実現できます • 温度制御器は本体に内蔵されており、制御箱を別置きにする必要がありません • 熱電対や炉心管の取り外しや交換が容易です • 科学研究所や教育機関などで、様々な材料試験や熱処理に使用されています
高速加熱、安全性と爆発防止を確保！高真空炉よりもはるかに費用対効果が高い
『OSK 97TG 14LVC』は、温度均一性に優れている低真空雰囲気炉です。 高速加熱、安全性と爆発防止を確保し、正確な温度制御と 優れた断熱性といった特長が備わっております。 また、容積は8、12、18、36、45、64Lと6パターンがラインアップし、 発熱体は高品質炭化ケイ素棒ヒーター(SIC)です。 【特長】 ■気密性と保温性が向上 ■雰囲気制御が可能、最大真空度20,000Pa ■高速加熱、安全性と爆発防止を確保 ■正確な温度制御と優れた断熱性 ■高真空炉よりもはるかに費用対効果が高い ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
各加熱ゾーンは別々に制御可能！熱電対、制御装置、加熱装置共にそれぞれ3組を装備
『OSK 97TG 12THt』は、金属材料、セラミック、ナノ、半導体、 粉末冶金など、新材料の焼結と高温熱処理に適した3ゾーン横型管状炉です。 セラミックファイバーを真空成形し、高温でも粉が落ちずエネルギーを 50％以上節約できるチャンバー材料を使用。 また、RS485ポート及びUSBアダプタを内蔵しパソコンでの制御が可能です。 【特長】 ■セラミックファイバーを真空成形し高温でも粉が落ちず エネルギーを50％以上節約できるチャンバー材料を使用 ■熱電対、制御装置、加熱装置共にそれぞれ3組を装備 ■各加熱ゾーンは別々に制御でき3つの異なる温度領域を得ることが可能 ■RS485ポート及びUSBアダプタを内蔵しパソコンでの制御が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
セラミックファイバーを真空成形！エネルギーを50％以上節約できるチャンバー材料を使用
『OSK 97TG 14THt』は、金属材料、セラミック、ナノ、半導体、 粉末冶金など、新材料の焼結と高温熱処理に適した3ゾーン横型管状炉です。 熱電対、制御装置、加熱装置共にそれぞれ3組を装備。 RS485ポート及びUSBアダプタを内蔵し、パソコンでの制御ができます。 また、各加熱ゾーンは別々に制御でき3つの異なる温度領域を 得ることが可能です。 【特長】 ■セラミックファイバーを真空成形し高温でも粉が落ちず エネルギーを50％以上節約できるチャンバー材料を使用 ■熱電対、制御装置、加熱装置共にそれぞれ3組を装備 ■各加熱ゾーンは別々に制御でき3つの異なる温度領域を得ることが可能 ■RS485ポート及びUSBアダプタを内蔵しパソコンでの制御が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
パソコンでの制御が可能！熱電対、制御装置、加熱装置共にそれぞれ3組を装備
『OSK 97TG 17THt』は、金属材料、セラミック、ナノ、半導体、 粉末冶金など、新材料の焼結と高温熱処理に適した3ゾーン横型管状炉です。 各加熱ゾーンは別々に制御でき3つの異なる温度領域を得ることが可能。 セラミックファイバーを真空成形し、高温でも粉が落ちず、エネルギーを 50％以上節約できるチャンバー材料を使用しております。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■セラミックファイバーを真空成形し高温でも粉が落ちず エネルギーを50％以上節約できるチャンバー材料を使用 ■熱電対、制御装置、加熱装置共にそれぞれ3組を装備 ■各加熱ゾーンは別々に制御でき3つの異なる温度領域を得ることが可能 ■RS485ポート及びUSBアダプタを内蔵しパソコンでの制御が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
各加熱ゾーンは別々に制御！2つの異なる温度領域を得ることが可能
『OSK 97TG 12THd』は、金属材料、セラミック、ナノ、半導体、 粉末冶金など、新材料の焼結と高温熱処理に適した2ゾーン横型管状炉です。 熱電対二組、制御装置二組、加熱装置二組を装備。 セラミックファイバーを真空成形し、高温でも粉が落ちずエネルギーを 50％以上節約できるチャンバー材料を使用しております。 また、RS485ポート及びUSBアダプタを内蔵し、パソコンでの制御が 可能です。 【特長】 ■セラミックファイバーを真空成形し高温でも粉が落ちず エネルギーを50％以上節約できるチャンバー材料を使用 ■熱電対二組、制御装置二組、加熱装置二組を装備 ■各加熱ゾーンは別々に制御でき2つの異なる温度領域を得ることが可能 ■RS485ポート及びUSBアダプタを内蔵しパソコンでの制御が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
大学、科学研究機関、工場などの産業で！金属材料などの焼結と高温熱処理に好適
『OSK 97TG 14THd』は、新材料の焼結と高温熱処理に適した 2ゾーン横型管状炉です。 セラミックファイバーを真空成形し、高温でも粉が落ちず、 エネルギーを50％以上節約できるチャンバー材料を使用。 熱電対二組、制御装置二組、加熱装置二組を装備しており、 最高温度は1,400℃、常用最高温度は1,300℃です。 【特長】 ■セラミックファイバーを真空成形し、高温でも粉が落ちず、 エネルギーを50％以上節約できるチャンバー材料を使用 ■熱電対二組、制御装置二組、加熱装置二組を装備 ■各加熱ゾーンは別々に制御でき、2つの異なる温度領域を得ることができる ■RS485ポート及びUSBアダプタを内蔵し、パソコンでの制御が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
保護ガスや反応ガスまたは真空雰囲気が必要なプロセスに最適
LBVHTシリーズの昇降底型レトルト炉は、保護ガスや反応ガスまたは真空雰囲気が必要なプロセスに最適です。この機種は基本的にはVHTシリーズの構造です。電気油圧駆動の昇降底構造やサイズで、特に製造でのワーク装入が容易になります。サイズと仕様の炉を取り揃えています。またVHT型と同様、様々な加熱方式に対応しています。
発熱体は高品質炭化ケイ素棒ヒーター(SIC)！高品質の石英ガラス管を使用
『OSK 97TG 14RT』は、炉管は360°回転させ、速度調節することが できる回転式管状炉です。 回転チューブにより、加熱均一が可能で、高真空シールフランジ、 ガス出入口ポート付き。高品質の石英ガラス管を使用。 また、セラミックファイバーライニングボード、HREヒーター ワイヤー内蔵で、最高温度は1,400℃でございます。 【特長】 ■回転チューブにより、加熱均一 ■チューブ回転速度 15RPM Max(リバーシブル) ■傾斜角度 0～30°(オプション) ■高真空シールフランジ、ガス出入口ポート付き ■高品質の石英ガラス管を使用 ■セラミックファイバーライニングボード、HREヒーターワイヤー内蔵 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
最高 600 ℃ 迄の真空下の熱処理
密閉型レトルト炉には、温度に相応して直接あるいは間接的加熱方式を採用します。 所定の不活性ガスあるいは反応ガス雰囲気が要求される多様な熱処理プロセスに最適です。 最高 600 ℃ 迄の真空下の熱処理にもこのようなコンパクト機種を応用できます。 炉室は密閉型レトルトで構成されています。ドア領域は特殊シールを保護する水冷方式を採用しています。水素のような反応ガスの使用にも相応の安全技術を採用しています。 また、IDB 装備では不活性ガスでの脱バインダーあるいは熱分解が可能です。 プロセスに要求される温度領域に対応して、以下に列記する種々の機種が採用されます。 ＜可燃性プロセスガスで稼動するH2 タイプ＞ 水素のような可燃性プロセスガスを使用する応用領域のレトルト炉には、それに求められる安全技術を追加装備して納入します。 安全に関するセンサーには相応の認証を受けた実証済みの部品だけを採用しています。炉の運転は、誤作動無く確実に作動する PLC 制御システム (S7-300F/安全制御) でコントロールされます。
マイコンPIDモードを採用！温度偏差補正機能を内蔵、正確な温度制御を実現
『OSK 97BM VO』は、各種類の真空乾燥に適している 標準型真空乾燥オープンです。 真空ポンプの設置スペースがあり、フランジ配管が速く、 独立した過熱保護機能があり、作業効率が向上し、 安全性が確保。 「VO-100」「VO-200」「VO-500」「VO-1000」の4種類を ラインアップしております。 【特長】 ■大容量の真空乾燥炉で、用途に応じてアップグレードが可能 ■固定温度プログラムに対応、自動開始や自動停止により、容易な操作 ■自己診断回路、覗き窓に樹脂保護パネルを設置 ■「VO-1000」には防爆タイプも用意 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
温度均一性に優れている雰囲気炉！雰囲気制御が可能で、最大真空度20,000Pa
『OSK 97TG 12LVC』は、不活性ガス雰囲気下での物質合成用に 設計された低真空雰囲気炉です。 気密性と保温性が向上し、雰囲気制御が可能。最大真空度は20,000Paです。 最高温度は1,200℃で、常用最高温度は1,100℃。 また、正確な温度制御と優れた断熱性が備わっており、 発熱体はHRE合金抵抗ワイヤーとなっております。 【特長】 ■気密性と保温性が向上 ■雰囲気制御が可能、最大真空度20,000Pa ■高速加熱、安全性と爆発防止を確保 ■正確な温度制御と優れた断熱性 ■高真空炉よりもはるかに費用対効果が高い ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
最高温度は1,700℃！炉管は360°回転させ、速度調節することが可能
『OSK 97TG 17RT』は、炉体は15°傾けることができ、材料の出し入れが 容易な回転式管状炉です。 加熱装置、自動回転機構キット及び炉体傾斜機構から構成され、 回転チューブにより、加熱均一が可能。 加熱長は300mm、最高温度は1,700℃です。また、発熱体は高品質 二珪化モリブデンヒーター(MoSi2)となっております。 【特長】 ■回転チューブにより、加熱均一 ■チューブ回転速度 15RPM Max(リバーシブル) ■傾斜角度 0～30°(オプション) ■高真空シールフランジ、ガス出入口ポート付き ■高品質の石英ガラス管を使用 ■セラミックファイバーライニングボード、HREヒーターワイヤー内蔵 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
研究開発・実験用 分裂型管状炉 最高温度 1100℃ 1500℃ 標準横型、オプションで縦型 大口径炉心管対応
＜説明＞ 研究や実験で使用される分裂型管状炉です。 標準は横型、オプションで縦型分裂炉もございます。 異なる作業管の使用/都度交換や、その他の被加熱物へのアクセスが容易です。 ＜特長＞ 温度制御器ボックス 別置き型 または 一体型 高品質の断熱材 高い均一性 長寿命の高品質ヒーター（Kanthal-Superthal/Super Globar）
温度均一が5℃以内！炭素製品のような材料の特殊な熱処理にも対応可能
『OSK 75YU 17HV』は、1700℃まで操作できるラボ用真空熱処理炉です。 金属材料やセラミック部品、特にステンレス鋼、高温合金、硬質合金、 非鉄金属のような材料の還元性または保護雰囲気での真空焼結と アニールの熱処理に対応。 温度精密が±1のSCR(ケイ素制御の整流器)と30の区分のプログラム可能な 温度制御を搭載しております。 【特長】 ■良好な真空フランジシールにより漏れがない ■断熱性に優れたセラミックファイバーを採用した炉室を使用 ■温度の増減が速い ■個性的なカスタマイズが可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
